Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников

Автор: Луфт Б.Д.
Год: 1982
Издательство: Радио и связь

Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений А3В5, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений.


Ссылки на скачивание удалены по просьбе правообладателя